2010年10月1日 · 本书系统介绍了晶体硅太阳电池制造工艺原理,主要内容包括：绪论,太阳能用多晶硅生产工艺,太阳电池用硅晶体生长工艺,硅片多线切割及测试,硅片的清洗和制绒,掺杂制备pn结,硅片表面和边缘刻蚀,减反射膜/钝化膜制备与激光消融开孔,电极的丝网
2018年8月24日 · 我们按照太阳电池的器件结构、硅 p-n结太阳电池的基本工作原理到一般的制造工艺流程的顺序进行介绍。 1. 晶体硅太阳电池的器件结构晶体硅太阳电池的基本结构见图 1.,它由扩散法在表面形成的浅 PN 结,正面欧姆接触栅格电极,覆盖于整个背面的欧姆接触
2010年4月20日 · 晶体硅 太阳能 电池的制造工艺流程说明如下： （1） 切片：采用多线切割,将硅棒切割成正方形的硅片。 （2） 清洗：用常规的硅片清洗方法清洗,然后用酸（或碱）溶液将硅片表面切割损伤层除去30－50um。 （3） 制备绒面：用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。 （4） 磷扩散：采用涂布源（或液态源,或固态氮化磷片状源）进行扩散,制
2023年1月13日 · 该书系统介绍了晶体硅太阳电池制造工艺原理,主要内容包括绪论、太阳能用多晶硅、太阳电池用硅晶体、硅片多线切割及测试、硅片的清洗和制绒、掺杂制备PN结、硅片表面和边缘刻蚀、减反射膜制备、电极的丝网印刷与烧结、高转换效率晶 体硅太阳电池
2011年7月4日 · 晶体硅太阳能电池制造的常规工艺流程主要包括：硅片清 洗、绒面制备、扩散制结、（等离子周边刻蚀）、去 PSG(磷硅玻璃)、PECVD减反射膜制备、电极(背面电极、 铝背场和正电极)印刷及烘干、烧结、Laser和分选测试等。
2013年10月16日 · PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。 该技术实现了薄膜沉积工艺的低温化( <450°C) 正常的SiNx 的Si/N 之比为0.75,即Si3N4 。 但是PECVD沉积氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化,Si/N 变化的范围在0.75-2左右。 除了Si...
2012年4月1日 · 《晶体硅太阳电池制造工艺原理》是2017年电子工业出版社出版的图书,作者是陈哲艮、郑志东 。 本书介绍太阳电池材料、工作原理、制造方法及太阳电池的应用工程。《晶体硅太阳电池制造工艺原理》是2017年电子工业出版社出版的图书,作者是陈哲艮、郑志东。
晶体硅太阳能电池是目前使用最高广泛的太阳能电池之一,其制造工艺原理包括晶体硅的制备、制作晶Biblioteka Baidu硅片、制作太阳能电池及其组件的制作等多个步骤。
我们按照太阳电池的器件结构、硅p-n结太阳电池的基本工作原理到一般的制造工艺流程的顺序进行介绍。 1. 晶体硅太阳电池的基本结构见图1.,它由扩散法在表面形成的浅PN结,正面欧姆接触栅格电极,覆盖于整个背面的欧姆接触电极以及正面减反射膜构成。
晶体硅太阳能电池制造的常规工艺流程主要包括：硅片清 洗、绒面制备、扩散制结、（等离子周边刻蚀）、去 PSG(磷硅玻璃) 、PECVD 减反射膜制备、电极(背面电极、 铝背场和正电极) 印刷及烘干、烧结、Laser和分选测试等。